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然而，软件作为CH3OH的主要竞争产物，CH4的选择性却呈现出与CH3OH不同的变化趋势。因此，构建管控在CO2还原过程中，Mo2C/N-CNT表面CH4的生成可能主要经过CO途径。
值得注意的是，成本创造本研究暂时无法提供明确的证据来确定Mo-N界面是否作为CO2还原为CH3OH的活性位点。然而，体系值得注意的是，尽管目前的计算提供了许多有价值的信息，但仍需要开发更精确的电解质-电极界面模型以获得更深入的见解。结果表明，强化CH3OH主要产生在Mo2C/N-CNT中的Mo2C位点上，而N位点促进了Mo2C的分散并控制了Mo2C的粒径。
进一步进行理论计算，价值以准确获得中间体的吸附能和吸附构型。值得注意的是，远光业务应用计算的羟基覆盖率低于XPS(O与Mo的原子比约为1:1)测得的羟基覆盖率，远光业务应用这可能是由于样品转移过程中不可避免的氧化和还原条件下的氧气损失，因此在未来需要进行原位(操作)表征。
[成果掠影] 在这项研究中，软件天津大学巩金龙教授课题组描述了一种将金属的d态与碳的s态杂化的策略，软件该策略在吸附物-表面键合变化过程中促进了所得催化剂的sp态的显著变化，从而避免了碳和氧吸附能之间的相互依赖。
上述结果表明，构建管控CH2O*可能是Mo2C/N-CNT表面生成CH3OH的中间产物，可能同时存在于CO2还原和CO还原过程中。2001-2008年在美国Nanosys高科技公司工作、成本创造是该公司的联合创始人之一，成本创造历任联合技术顾问、先进技术科学家、先进技术高级科学家、先进技术部经理和首席科学家。
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